Tədqiqatçılar müəyyən etdilər ki, epoksi akrilatın (EA) karboksil ilə bitən ara məhsulla modifikasiyası filmin elastikliyini artırır və qatranın özlülüyünü azaldır. Tədqiqat həmçinin sübut edir ki, istifadə olunan xammal ucuzdur və asanlıqla əldə edilə bilər.
Epoksi akrilat (EA) qısa müddətə, yüksək örtük sərtliyinə, əla mexaniki xüsusiyyətə və istilik sabitliyinə görə hazırda ən çox istifadə edilən UV-müalicə olunan oliqomerdir. EA-nın yüksək kövrəkliyi, zəif elastikliyi və yüksək özlülüyü problemlərini həll etmək üçün aşağı özlülük və yüksək elastikliyə malik UV-müalicə olunan epoksi akrilat oliqomeri hazırlanmış və UV-müalicə olunan örtüklərə tətbiq edilmişdir. Anhidrid və diolun reaksiyası nəticəsində əldə edilən karboksil bitmiş ara məhsul, müalicə olunan filmin elastikliyini yaxşılaşdırmaq üçün EA-nı dəyişdirmək üçün istifadə edildi və elastiklik diolların karbon zəncirinin uzunluğu ilə tənzimləndi.
Görkəmli xüsusiyyətlərinə görə, epoksi qatranlar, demək olar ki, hər hansı digər bağlayıcı sinfindən daha çox örtük sənayesində istifadə olunur. Müəlliflər Dornbusch, Christ və Rasing "Epoksi Qətranlar" adlı yeni arayış kitabında epoksi qrupunun kimyasının əsaslarını izah edir və sənaye örtüklərində epoksi və fenoksi qatranlarının istifadəsini izah etmək üçün xüsusi formulalardan istifadə edirlər - korroziyadan qorunma, döşəmə örtükləri, toz örtükləri və daxili qab örtükləri.
E51 ikili qlisidil efiri ilə qismən əvəz edilərək qatran özlülüyü azaldıldı. Dəyişdirilməmiş EA ilə müqayisədə bu tədqiqatda hazırlanmış qatranın özlülüyü 29800-dən 13920 mPa s-ə (25°C) qədər azalır və bərkimiş filmin elastikliyi 12-dən 1 mm-ə qədər artır. Ticarətdə mövcud olan dəyişdirilmiş EA ilə müqayisədə, bu tədqiqatda istifadə olunan xammallar aşağı qiymətə və sadə sintez prosesindən istifadə edərək 130°C-dən aşağı reaksiya temperaturu ilə asanlıqla əldə edilir və üzvi həlledicilər yoxdur.
Bu araşdırma 2023-cü ilin noyabrında Journal of Coatings Technology and Research, Volume 21-də dərc edilmişdir.
Göndərmə vaxtı: 27 fevral 2025-ci il
